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選擇萃取設(shè)備時(shí)必須考慮的3個(gè)要點(diǎn)
發(fā)布時(shí)間:2013-05-09        瀏覽次數(shù):208        返回列表

選擇萃取設(shè)備時(shí)必須考慮的3個(gè)要點(diǎn)

        當(dāng)一相成細(xì)滴狀態(tài)不斷地分散到另一相時(shí),便可得到大的界面積。質(zhì)量傳遞系數(shù)的大小取決于兩相間的傳質(zhì)方式。從擴(kuò)散機(jī)理看,擴(kuò)散有分子擴(kuò)散和渦流擴(kuò)散,前者速度很慢,而后者是快速傳遞的前提,當(dāng)加入外界能量,保證液相間有湍動(dòng)面時(shí),便可以連續(xù)地進(jìn)行渦流擴(kuò)散,提高傳遞速率。濃度差A(yù)C(或濃差作用力)與界面湍動(dòng)程度有關(guān),當(dāng)兩相進(jìn)行無回流的、理想逆流流動(dòng)時(shí),濃度差A(yù)C在界面間達(dá)到最大,如果有軸向混合,即停留時(shí)間不均勻時(shí),則使傳遞效率降低。

  根據(jù)以上所述,在實(shí)踐中一方面可以采用重力法分散兩相,另外一方面可以在萃取設(shè)備內(nèi)加入外界能量——噴霧、攪拌或脈沖等方式提高傳遞速率。顯然,希望質(zhì)量傳遞速率應(yīng)盡可能大,而萃取設(shè)備應(yīng)盡可能小。當(dāng)然在保證高傳遞速率下,當(dāng)實(shí)際產(chǎn)量增大時(shí),磨粉機(jī)設(shè)備就需要相應(yīng)地增大。

  在萃取設(shè)備中,按兩相接觸方式,可分為兩大類:連續(xù)接觸式(也稱為微分接觸式)和間斷接觸式(也稱為階段接觸式),前者相組成連續(xù)地或接近于連續(xù)地改變,后者具有一定數(shù)目的分離段,每一段料液混合之后進(jìn)行分離。

  選擇萃取設(shè)備時(shí),必須考慮如下的3個(gè)要點(diǎn):①有效接觸所需的級數(shù);②通過的流量;⑧停留的時(shí)間。

  此外,還要考慮兩相的比重,雷蒙機(jī)設(shè)備清洗的難易及廠地面積等。如果廠地高度不夠可采用臥式設(shè)備,如廠地面積窄小,則可采用立式設(shè)備。

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