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2014臺(tái)灣觸控面板產(chǎn)業(yè)發(fā)展情況預(yù)測(cè)

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2014-04-02
核心提示:臺(tái)灣觸控面板產(chǎn)業(yè)2013年遭遇重大考驗(yàn)、訂單流失,許多觸控面板廠商陷入虧損。展望2014年,臺(tái)灣觸控面板產(chǎn)業(yè)是否還有機(jī)會(huì)扳回一城?

臺(tái)灣觸控面板產(chǎn)業(yè)2013年遭遇重大考驗(yàn)、訂單流失,許多觸控面板廠商陷入虧損。展望2014年,臺(tái)灣觸控面板產(chǎn)業(yè)是否還有機(jī)會(huì)扳回一城?主要3大觀察重點(diǎn)與發(fā)展趨勢(shì)包括:on-cell嵌入式液晶觸控面板發(fā)展情況、觸控面板模組全貼合(Opticalbonding)需求變化,以及取代ITO的新材料量產(chǎn)進(jìn)程等等。

on-cell嵌入式液晶觸控面板是今年臺(tái)灣觸控面板產(chǎn)業(yè)最受矚目的焦點(diǎn)之一。因?yàn)榕_(tái)灣4家液晶面板廠都已投入on-cell嵌入式液晶觸控面板技術(shù)。過(guò)去面板廠曾試圖開(kāi)發(fā)on-cell嵌入式面板,但除了三星的on-cellAMOLED外,液晶面板廠在on-cell的發(fā)展在一直不甚理想。除了品牌廠采購(gòu)不愿受制于單一貨源外,成本不具優(yōu)勢(shì)也是原因之一。

后來(lái)臺(tái)灣面板廠開(kāi)始和控制芯片廠商合作,并由控制芯片廠商在2012年提出單層多點(diǎn)圖案做法。相對(duì)于傳統(tǒng)sITO圖案,單層多點(diǎn)僅需要一道光罩,而且不需電極架橋,盡管靈敏度較sITO差,但價(jià)格卻有競(jìng)爭(zhēng)力,因此單層多點(diǎn)圖案在2012年時(shí)被應(yīng)用于GF1結(jié)構(gòu),較GFF結(jié)構(gòu)省掉一張ITO薄膜和一張光學(xué)膠。2013年層多點(diǎn)圖案又取代sITO結(jié)構(gòu),導(dǎo)入on-cell嵌入式液晶觸控面板。

不同于apple的in-cell和samsung的on-celAMOLED定位于高階機(jī)種,搭載單層多點(diǎn)圖案的on-cell嵌入式液晶觸控面板定位在中低階智能型手機(jī)領(lǐng)域。而單層多點(diǎn)圖案on-cell嵌入式觸控面板不僅改善了傳統(tǒng)sITO圖案的良率和成本,更讓品牌商感受到價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)力,并且提高面板廠的生產(chǎn)意愿,又解決品牌商在采購(gòu)上對(duì)于單一貨源的顧慮,促使on-cell正加速普及。

而觸控面板模組全貼合(opticalbonding)亦為臺(tái)灣觸控面板產(chǎn)業(yè)今年重要發(fā)展趨勢(shì)之一。根據(jù)npddisplaysearch說(shuō)明,所謂全貼合系指用固態(tài)(OCA)或是液態(tài)光學(xué)膠(OCR)來(lái)進(jìn)行貼合。特別是指感應(yīng)線路層和面板之間的全貼合。全貼合可以改善空氣層(AirGap)全反射現(xiàn)象,有助于液晶面板背光順利穿透表面玻璃。同時(shí),全貼合在縮短堆疊厚度亦有幫助。

不過(guò),全貼合的代價(jià)就是良率損失。在貼合過(guò)程中如果遇上貼合瑕疵、無(wú)法重工,液態(tài)光學(xué)膠滲透進(jìn)面板或紫外線固化不均等因素也都可能使觸控面板報(bào)廢。另外,高階產(chǎn)品除了需要全貼合來(lái)凸顯光學(xué)規(guī)格,其觸控面板價(jià)格也往往較高,因此觸控模組廠就算是僅有1%良率下滑,都可能讓毛利賠進(jìn)去。反之,若是模組廠全貼合能力強(qiáng),除了可以形成競(jìng)爭(zhēng)門(mén)檻外,還可以增加來(lái)自面板轉(zhuǎn)手的營(yíng)業(yè)額。

據(jù)調(diào)查,2013年已經(jīng)有些品牌商高階平板電腦都采用了全貼合,但領(lǐng)導(dǎo)品牌apple的ipad卻依然采用較差的口字膠貼合。2014年ipad系列可能改采全貼合技術(shù)、以提升觸控面板光學(xué)效果。

最后在新材料方面,目前臺(tái)廠投入開(kāi)發(fā)并推廣的新觸控材料技術(shù)包括metalmesh、納米銀等等,主要用于薄膜結(jié)構(gòu)電容式觸控面板產(chǎn)品。觸控新材料應(yīng)有機(jī)會(huì)成為新一代的薄膜式電容導(dǎo)電材料,雖然短時(shí)間內(nèi)還無(wú)法全面取代ITO,但取代比重可能會(huì)逐年提高。
 

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